旋光异构R/S标记法中，如何区分基团的优先顺序？
答案:1 悬赏:10
解决时间 2021-01-21 03:36
- 提问者网友：不要迷恋哥
- 2021-01-21 00:27
旋光异构R/S标记法中，如何区分基团的优先顺序？
最佳答案
- 二级知识专家网友：孤独入客枕
- 2021-01-21 01:27
次序规则
（1）原子：原子序数大的排在前面,同位素质量数大的优先.几种常见原子的优先次序为：I>Br>Cl>S>P>O>N>C>H
（2）饱和基团：如果第一个原子序数相同,则比较第二个原子的原子序数,依次类推.常见的烃基优先次序为：(CH3)3C->(CH3)2CH->CH3CH2->CH3-
（3）不饱和基团：可看作是与两个或三个相同的原子相连.不饱和烃基的优先次序为:
-C≡CH>-CH=CH2>(CH3)2CH-
（4）若与双键碳原子相连的基团互为顺反异构时,Z型先于E型.
（1）原子：原子序数大的排在前面,同位素质量数大的优先.几种常见原子的优先次序为：I>Br>Cl>S>P>O>N>C>H
（2）饱和基团：如果第一个原子序数相同,则比较第二个原子的原子序数,依次类推.常见的烃基优先次序为：(CH3)3C->(CH3)2CH->CH3CH2->CH3-
（3）不饱和基团：可看作是与两个或三个相同的原子相连.不饱和烃基的优先次序为:
-C≡CH>-CH=CH2>(CH3)2CH-
（4）若与双键碳原子相连的基团互为顺反异构时,Z型先于E型.
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