光敏印章机<br><br>光敏印章的特点：<br><br>光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的，它是由一种特殊的化工合成材料，通过专用设备瞬间发出强光辅射，使材料表面发生光氧化<br><br>及热交联作用从而制成的印章。光敏印章的面世可以说是印章行业的一次革命，完全颠覆了传统印章的凹凸成像原理。利用特殊感光材料制<br><br>成。具有成像极其清晰，无需印泥...[详细介绍]