PECVD定义

PECVD定义

PECVD：是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD).
PECVD优点：基本温度低；沉积速率快；成膜质量好，针孔较少，不易龟裂。
PECVD缺点：
　1.设备投资大、成本高，对气体的纯度要求高；
　2.涂层过程中产生的剧烈噪音、强光辐射、有害气体、金属蒸汽粉尘等对人体有害；
　3.对小孔孔径内表面难以涂层等。
常见的PECVD薄膜：
　氮化硅、氧化硅、氮氧硅等

PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) -- 等离子体增强化学气相沉积法 　　PECVD：是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜